產(chǎn)品詳情
真空吸盤可繞Z軸旋轉(zhuǎn),噴嘴可沿X、Y、Z移動,哈默納科去除裝置諧波CSF-25-160-2A-GR圍繞Z旋轉(zhuǎn)。噴嘴沿硅片徑向分滴光刻膠,這樣哈默納科去除裝置諧波CSF-25-160-2A-GR光刻膠就可以均勻噴涂在硅片表面上。光刻膠涂覆后,在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。邊緣的光刻膠一般涂布不均勻,不能得到很好的圖形,哈默納科去除裝置諧波CSF-25-160-2A-GR而且容易發(fā)生剝離(Peeling)而影響其它部分的圖形。所以需要去除。“背面EBR”裝置為邊緣光刻膠的去除裝置。